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纯水
光学、电子用纯水

                                                
        纯水在光学、电子生产中的重要作用日益突出,纯水水质已经成为影响光学、电子产品质量、生产成品率以及生产成本的重要因素之一,水质要求也是越来越高。在光学、电子的生产过程当中,纯水主要用作清洗用水以及用来配制各种溶液、浆料,不同的产品在生产过程中纯水的用途及对水质的要求也略有不同。
 
       在电解电容器的生产过程当中,铝箔及工作件的清洗需使用纯水,如水质当中含有氯离子,电容器就会有漏电现象发生。在电子管的生产过程中,电子管阴极涂覆碳酸盐,如果其中混入杂质,就会影响到电子的发生,进而影响电子管的放大性能。在晶体生长过程中,纯水中杂质的存在会改变晶体上不同面网的表面能,导致其相对生长速度也随之变化进而影响晶体形态。

       光学、电子用纯水常用处理工艺分为:
      
多介质过滤器+活性炭过滤器+反渗透+混合离子交换器+抛光混床
          特点:使用反渗透减少酸碱的使用量,运行费用较低,环境污染减轻。
      
自清洗过滤器+超滤+反渗透+电去离子(EDI)+抛光混床
          特点:自动化程度较高,无酸碱化,运行费用低,无环境污染。
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